一、高反射膜抗激光损伤的研究进展（论文文献综述）
李阳[1]（2021）在《1064nm高能激光反射膜的制备及其形变分析》文中认为高反膜已广泛应用于各种激光系统及光学仪器中,然而由于高反膜一般厚度较大,光学元件在镀膜后常常由于薄膜应力而引起较大的面形变化,这将使得光学系统的成像质量变差。为了降低系统中光学元件镀膜前后的面形变化,有必要建立多层膜热应力和残余应力模型,明确不同膜料和膜系下膜-基结构的应力分布和面形变化,才能设计并制备微变形高能激光反射膜。基于以上讨论,本文研究了熔石英基底（220×10mm）上激光高反膜的应力分布,膜系设计及工艺制备等。使用有限元分析方法对多层膜的热应力和残余应力及其引起的面形变化进行仿真分析,进行膜料的选择,利用TFC软件进行膜系设计。在ZZS500-2/G真空箱式镀膜机中完成小口径高反膜的制备。在莱宝ARES 1350镀膜机中,采用电子束真空镀膜并加以APS离子源辅助沉积完成激光高反膜的制备。通过建模仿真分析,得到膜-基结构热应力分布规律。采用等效参考温度和生死单元技术对多层膜的残余应力进行分析,在残余应力作用下,熔石英基底（30×2mm）上高反膜膜系G|（HL）10H|A比G |（LH）10L|A面形变化更小,面形变化减少38nm。对于大口径元件,考虑在重力引起的曲面上镀膜,修正了理想平面镀膜的不足,为微变形激光介质高反膜的制备提供指导。发现熔石英基底上高低折射率材料（TiO2、HfO2、H4和SiO2）的本征应力在残余应力中起主导作用,制备的不同膜料组合的高反膜都表现为压应力,其中TiO2/SiO2组合残余应力最小,对应面形变化也最小。镀膜前基底面形对镀膜后面形的影响较大,平面度越高,变形量较小。当镀膜前基底面形为凹面时,镀膜后变为凸面,这表明镀膜可以改善或修改基底面形,说明了应变补偿法的可行性。熔石英上膜系G|（HL）10H2L|A的残余应力为-39.70MPa,镀膜前后面形变化为0.112λ,相对于不加补偿层的G|（HL）10H|A膜系面形变化量减小0.094λ,表明当加2L应力补偿层时,不仅减小多层膜整体残余应力,使得镀膜前后基底面形变化较小,而且有利于抗激光损伤能力的提高,其抗激光损伤阈值为6.9J/cm2,比不加保护层时的抗激光损伤阈值提高2.9J/cm2。在熔石英基底（220×10mm）上制备激光高反膜,当初始面形为凸面时,膜系为G|（HL）10H|A比G|（LH）10L|A面形变化更小,减小了 1.9λ。无论基片口径大小或初始面形为凹面或凸面,同等实验条件下,熔石英基片上镀制TiO2/SiO2高反膜膜系为G |（HL）10H|A面形均优于G|（LH）10L|A,膜系G|（HL）10H|A的反射率较高。膜系G|（HL）10H2L|A的抗激光损伤阈值较高。最终,在熔石英（220×10mm）上实现 1064±40nm 波段,R>99.77%;LIDT=5.4J/cm2;△PV=2.64λ。
王利栓[2]（2021）在《离子束溅射沉积多波长激光薄膜研究》文中指出随着可调谐激光技术应用的发展,对多波长激光薄膜提出了较高要求:一是要求高反射薄膜的带宽更宽,当前因受反射镜带宽所限只能通过更换腔镜的方式来实现宽带激光的输出;二是要求激光薄膜的损伤阈值更高,目前非线性激光晶体薄膜的损伤阈值已成为制约中波红外激光器功率提升的瓶颈。针对高反射激光薄膜的带宽问题及多谱段非线性晶体减反膜的损伤阈值问题,开展理论和实验研究具有重要的科学意义和使用价值,将对可调谐激光技术的发展起到巨大推动作用。高性能宽带反射镜仅能通过全介质膜堆的方法实现,膜系结构具有层数多、总物理厚度大等特点,存在严重的应力诱导面形畸变问题,以及局部吸收谐振放大导致的反射率凹陷问题;多谱段减反射晶体薄膜,主要应用于中红外光学参量振荡激光器,该非线性晶体在光学性能和力学特性上均具有各向异性,且该元件工作于强激光环境中,种种原因导致该晶体薄膜元件易破坏、可靠性差。本文中膜层制备方法均采用离子束溅射沉积技术,膜层材料均选择氧化物薄膜材料体系。离子束溅射氧化物薄膜具有致密度高、缺陷少等优点,但其高压应力问题必须得到有效解决。另外,对于氧化物薄膜材料在中波红外的特性及应用报道极少。首先,针对氧化物薄膜光学常数精确表征问题,本文选择Tauc-Lorentz和Cody-Lorentz复合色散模型,重点对该复合模型的带尾吸收衰减规律进行修正,从而有效连接带间跃迁吸收和透明区的弱吸收。并以Ta2O5、Hf O2氧化物薄膜为例进行光学常数表征,结果表明拟合偏差明显减小;开展了薄膜光学特性与力学特性之间关联性的理论研究,揭示薄膜光学特性与力学特性的相互影响规律,为工艺调整提供依据。其次,针对离子束溅射氧化物薄膜材料高压应力状态、薄膜结构微缺陷问题,系统开展了氧充量对Ta2O5薄膜、Hf O2薄膜、Al2O3薄膜和Si O2薄膜的光学特性、微结构特性、应力特性等影响。同时,重点对比了不同溅射起始材料对Ta2O5薄膜、Hf O2薄膜特性的影响,建立了氧化物薄膜特性与工艺参数的关联性,特别是获得了针对氧缺陷控制的最佳工艺,降低激光与薄膜相互作用时氧缺陷诱导吸收造成薄膜热熔破坏风险。然后,通过系统开展薄膜退火后处理研究,建立了氧化物薄膜能带特性、红外波段光学特性与退火后处理的关系,获得了基于退火后处理技术进行薄膜应力调控的方法。特别是提出了基于正压背景下压力调控的低热应力引入薄膜后处理思路,采取用于光学材料压制的热等静压方法用于薄膜的后处理,与传统后处理方法相比,该方法可大大降低由于膜层-基底热膨胀系数差异而二次引入的热应力。最后,针对超宽带激光反射镜膜层应力导致面形畸变问题,提出了超宽带反射镜薄膜分离设计方法,在基板两侧设计等厚膜层以减小应力带来的面形畸变问题。然而该方法并不能减小膜层高应力状态,因此需在选取低应力膜层制备工艺的基础上,并在膜层制备后采用低热应力引入的热等静压方法进行后处理,降低膜层应力、提高反射镜可靠性。最终获得了在400～1200nm波段范围内平均反射率99.91%,面形精度为0.072λ的超宽带激光反射镜。针对中红外非线性ZGP晶体减反射多层膜的设计与制备,首先提出了基于添加Al2O3薄膜应力匹配层的光力一体化设计理念,解决ZGP晶体基底热膨胀系数各向异性带来的机械稳定性差的问题;同时,针对基底折射率各向异性、吸收基底光学常数难以精确标定问题,提出了基于基底折射率容差的减反射膜系设计方法。最后,采用离子束溅射技术制备了多谱段中红外非线性晶体减反膜,经测试激光损伤阈值可达到4J/cm2。
毛思达[3]（2020）在《后处理工艺对光学薄膜特性影响的研究》文中认为随着激光技术的发展,大功率激光器越来越受人们的重视。大功率激光器在工业、军事和核聚变等方面起着重要的作用,人们在提高大功率激光器系统的输出功率方面付出了巨大的努力。光学薄膜在激光器系统中有着重要的作用,但是随着激光系统功率的提升,光学薄膜在高激光功率密度下容易损坏,光学薄膜成为了激光系统功率提升的瓶颈。本文围绕光学薄膜抗激光能力开展了研究,分别采用热退火、等离子体后处理和两步后处理方法提升光学薄膜的纳秒激光损伤阈值（LIDT）,具体研究内容如下:（1）围绕Ar/O混合等离子后处理对TiO2单层薄膜光学特性和抗激光损伤特性影响的机理开展了研究。对于电子束蒸发技术（EBE）制备的单层TiO2薄膜,在Ar/O混合等离子体后处理过程中,Ar离子可以去除薄膜表面缺陷,O离子具有减少薄膜材料非化学计量缺陷的作用,由此提高了TiO2薄膜的光学特性和激光损伤阈值。实验结果表明,随着等离子体后处理时间的增加,薄膜的致密度提高、表面粗糙度降低、表面缺陷密度先减少后增加。在1064nm激光辐射下,TiO2薄膜的LIDT从未经等离子后处理的5.6J/cm2提升至经20分钟后处理的9.65J/cm2,提升幅度达到72.3%。（2）提出一种结合了热退火和等离子后处理技术的两步后处理工艺,并围绕其对HfO2单层薄膜的影响开展了研究。研究表明,离子后处理可以有效地降低薄膜表面缺陷密度,使薄膜更为平整,并去除浅层的杂质和节瘤;热退火可以减少薄膜内部水汽,深度氧化薄膜、减少薄膜非化学计量缺陷。离子后处理与热退火的结合互补了两种后处理的优点,最大限度地减少了薄膜缺陷。因此,与未经后处理的光学薄膜相比,进行了两步后处理的HfO2薄膜样品的损伤阈值由7.4J/cm2提升至12.5J/cm2。（3）探究了两步后处理方法对HfO2/TiO2/SiO2高反射薄膜光学特性和LIDT的影响。由于增加了等离子体后处理过程,与单纯的热退火后处理相比,两步后处理拓宽了高反膜的反射带宽,显着地减小了薄膜表面缺陷密度,降低了薄膜的内应力。与此同时,在等离子体后处理和热退火后处理共同的作用下,两步后处理有效地提高了高反射膜的激光损伤阈值。测试结果表明,经过两步后处理的HfO2/TiO2/SiO2高反射膜的LIDT达到了32.8J/cm2,与仅经过热退火后处理的样品相比提高了27.6%,与未经后处理的样品相比提高了110.3%。
李五一[4]（2019）在《LD端泵腔内倍频457nm激光器高反射腔镜的研制》文中研究表明457nm蓝光激光器具有波长短、光子能量强、颜色饱满等优点,在高密度光学存储、激光显示与海底资源探测等领域有着广泛的应用。随着激光应用技术精度的不断提高,针对激光器输出光束的质量提出了更高的要求。高反射腔镜作为457nm激光器的重要薄膜光学元件,其主要作用是维持腔内激光的高效振荡,对蓝光激光的输出质量与效率有重要影响,因此研制性能良好的457nm激光器高反射腔镜具有重要意义。选择石英玻璃作为高反射腔镜的基片材料,基片采用非球面以提高激光强度。为减小基片表面粗糙度对高反射腔镜造成的散射影响,通过CCOS技术实现了高反射腔镜基片的制备。根据石英玻璃材料的加工特性,对铣磨与抛光过程中的工艺参数进行优化,通过全口径弹性预抛光与小工具修正抛光相结合的方式提高了非球面面形收敛效率,解决了石英玻璃材料硬度大、材料去除率低的问题。选择粒径更小的抛光粉,采用手工修抛的方式进一步提高了非球面表面质量,制备的高反射腔镜基片表面粗糙度达到1nm以下。457nm激光器高反射腔镜具有对基频光和457nm激光高反射,对泵浦光和腔内其余两条强发射谱线高透射的功能。基于高反射膜设计理论,选择H4和SiO2作为高低折射率材料,结合膜系设计软件,利用倍频反射膜思想实现了多波长高反射膜的设计。在满足五个波长高透射与高反射要求的同时降低了膜层总厚度,解决了利用常规思想设计时膜系优化难度大的问题。在薄膜制备过程中,优化了电子束蒸发工艺,采用离子辅助沉积与阶梯退火技术改善了薄膜的聚集密度与化学计量比,提高了薄膜的光谱稳定性与抗激光损伤阈值。通过逆向反演分析薄膜实际光谱曲线变化的原因,确定误差变化规律,利用最小二乘数据拟合的方法建立了残余蒸镀量与膜层厚度之间的关系式,解决了膜厚控制误差累积导致的光谱变差的问题。研制的高反射腔镜在457nm和914nm处的反射率分别为99.9%和99.6%,在808nm、1064nm和1342nm处的透射率分别为97.2%、96.8%和93.1%,经环境测试与抗激光测试,满足457nm激光器的使用要求。
王燕[5]（2019）在《渐变膜系减反膜激光损伤阈值变化规律研究》文中进行了进一步梳理光学减反膜元件是激光系统中极其重要的器件之一,如何提高减反膜的抗激光损伤阈值成为关注的一个热点。渐变折射率薄膜具有提高激光损伤阈值且实现宽带减反的特点。采用PECVD技术制备的渐变折射率薄膜具有折射率连续变化范围大,制造精度较高等独特的优点,近年来在激光薄膜的前沿研究中展现了巨大的应用潜能。本文重点探索渐变膜系减反膜与激光损伤阈值之间的变化规律。首先通过仿真技术进行不同的减反膜系设计并进行优化;其次,采用PECVD技术在K9玻璃上沉积不同渐变减反膜系（多层梯度渐变膜系和相应的坡度渐变膜系）完成样片制备,使样片平均透过率在450～750nm波段不低于99%;最后进行了激光损伤阈值测量,研究不同渐变膜系减反膜的激光损伤阈值变化规律。获得的主要结论如下:（1）通过选择合适的基础膜系,并结合一定的优化方法,获得了三种满足设计要求的渐变膜系减反膜。渐变膜系1:G/H1→H/L/A、渐变膜系2:G/0.48H2/L1→H/1.31L1/A、渐变膜系 3:G/L1/L/H3→H/L1/A,其中 nL=1.46,nL1=1.4,nH=1.96,nH1=1.7,nH2=1.85,nH3=1.75。三种渐变膜系在设计波段的理论平均透过率分别为99.44%、99.28%、99.60%。（2）完成了梯度法和坡度法制备三种渐变膜系减反膜的工艺研究,获取了满足光学性能的多种梯度和坡度渐变膜系。梯度渐变膜系样片平均透过率在99.02～99.41%之间,坡度渐变膜系样片平均透过率在99.03～99.52%之间。（3）在保持目标透射光谱要求和膜系总光学厚度不变的前提下,渐变膜系相对于基础膜系,抗激光损伤阈值有显着的提高;对于同一渐变膜系,在相同制备条件（梯度法和坡度法）下,随着梯度化层数的增加,薄膜的抗激光损伤阈值有减小的趋势;对于同一渐变膜系,在相同膜层的条件下,采用坡度法制备的样片抗激光损伤阈值均高于梯度法制备的样片;对于不同渐变膜系,在相同膜层和相同制备条件下,G/H1→H/L/A薄膜的抗激光损伤能力最强,其中坡度渐变膜系1-5的激光损伤阈值最大,为25.0J/cm2,G/0.48H2/L1→H/1.31L1/A 次之,G/L1/L/H3→H/L1/A 最弱。
董家宁,范杰,王海珠,邹永刚,张家斌,侯春鸽[6]（2018）在《高反射光学薄膜激光损伤研究进展》文中进行了进一步梳理激光诱导损伤阈值是大功率光学系统中重要参数,其数值大小对激光系统的输出功率与稳定性具有重要影响。为了突破损伤阈值对激光光学系统输出功率的限制,科研人员主要从制备薄膜工艺、激光特性、薄膜特性以及薄膜后工艺等方面开展研究。本文介绍了高反膜理论、制备工艺;综述了近十年来国内外对高反膜损伤研究的成果;阐述了激光特性、薄膜特性以及薄膜后工艺对薄膜损伤阈值的影响。在此基础上,对提高高反膜损伤阈值的研究和发展趋势进行了分析与展望。
苏俊宏,牛燕敏,侯妮妮,徐均琪[7]（2016）在《介质保护铝基高反膜的激光损伤特性研究》文中研究表明激光系统中高反膜的抗激光诱导损伤能力限制激光器有效输出功率的提高.实验采用阻蒸法制备Al膜,采用轮廓仪测试薄膜厚度,利用lambda950测试光谱特性,在激光损伤测试仪上测试薄膜的激光损伤阈值.分析了沉积温度和厚度对薄膜光学特性和抗激光损伤能力的影响.研究结果表明:在不同沉积温度下,采用阻蒸法制备单层Al膜,当沉积温度为200℃时,在1 0001 400nm波段的平均反射率达到95.59%,加介质保护膜后反射率提高到98%;随着膜层厚度的增加,其抗激光损伤阈值先降低再升高,沉积温度为200℃时,加介质保护膜的铝膜损伤阈值是单层铝膜的2倍;经零几率损伤激光能量辐照后,样片在1 0001 400nm范围内的平均反射率降低了1%.
郭培涛[8]（2011）在《长脉冲激光辐照下多孔薄膜激光损伤机制研究》文中进行了进一步梳理光学薄膜是激光系统的重要元件,溶胶-凝胶法制备的多孔光学薄膜在长脉冲高功率激光器中已经得到了广泛应用,但是其损伤阈值却成了长脉冲激光器向更大功率发展的瓶颈。因此研究长脉冲激光辐照下多孔薄膜的激光损伤特性与机制,对提高长脉冲激光器的功率非常重要。本课题首先采用多种工艺制备了一批具有一定光学特性的多孔薄膜,采用差热-热重法分析硅溶胶制定了多孔氧化硅薄膜的干燥烧结工艺,场发射扫描电子显微镜表征了多孔薄膜的显微结构,分光光度计表征了多孔薄膜的透射特性,热-电法测试了典型多孔薄膜的吸收特性,纳米压痕仪测试了部分多孔薄膜的显微力学性能；采用1064nm,12ns, Nd:YAG激光器,1-on-1模式测试了多孔薄膜的损伤阈值,采用光学显微镜及场发生扫描电子显微镜表征了损伤斑形貌；建立两结果微滴模型和四结果微滴模型分析了薄膜发生损伤后的等离子体雾化及膨胀过程,然后结合雾化和膨胀机理模拟了等离子体爆炸过程中各种参数的演化。研究发现：通过调整氨水比例和DMF的含量,可以得到不同颗粒尺寸和堆积方式的薄膜,有良好的增透效果,其薄膜损伤阈值强烈依赖与薄膜内氧化硅颗粒尺寸的大小和堆积方式；玻璃基多孔氧化铝薄膜中的孔呈六方排列,通过改变实验参数可以得到不同结构的多孔薄膜,其损伤阈值很小,随着氧化电压的增大,硫酸电解液制备的多孔氧化铝膜抗激光损伤能力略有增强。三种电解液工艺下制备的氧化铝多孔膜损伤斑明显不同,草酸氧化铝多孔膜损伤斑点外缘有类似于“爆炸”时形成的“菊花”状散射波痕迹,由中心向外辐射；硫酸氧化铝多孔膜损伤斑点外缘没有散射波痕迹,而是分布有与斑点内大小相同的损伤坑；磷酸氧化铝多孔膜损伤斑点内的损伤坑尺寸不一致,同时有大块已损伤膜被剥离,损伤斑外缘同样没有散射波痕迹和轻微的损伤坑,损伤斑外延是在力的作用下发生的脆性断裂。多孔薄膜在长脉冲激光辐照作用下,薄膜内缺陷或者杂质首先吸收激光能量,形成高压高密度等离子体球体,等离子球体继续吸收激光能量获得雾化动力,在雾化过程中多结果微滴雾化机制越倾向于占主导优势；可以通过减小微滴喷溅初期的电子密度、电子温度、离子温度以及延缓微滴喷溅发生的时间,降低其雾化程度,控制微滴对激光能量的吸收和利用,降低材料激光损伤过程后期的等离子体微滴爆炸的剧烈程度；微滴膨胀过程中,随半径的增加外壳层膨胀速度在初始阶段迅速增加,随后趋于稳定。微滴膨胀过程中,电子密度不断下降,当电子密度为临界电子密度的3倍时,等离子体吸收出现共振吸收峰。综合考虑裂解雾化和膨胀的影响,等离子体爆炸开始时间越早,则后续演化越复杂。
邓婷,黄光周,刘雄英,朱建明,戴晋福[9]（2009）在《高反膜镀制工艺研究的新进展》文中进行了进一步梳理叙述了近几年国内外的研究进展,包括高反膜几种不同的制备工艺,如电子束蒸发沉积、离子束辅助沉积、离子束溅射沉积和溶胶-凝胶沉积法等,分析了各种制备方法及工艺的特点;针对高反膜的抗激光损伤阈值低从而影响激光器输出功率的问题,讨论了提高损伤阈值的途径;最后归纳了各种制备工艺的优缺点,并探讨了进一步提高薄膜反射率的可能性。
章春来[10]（2009）在《SiO2/ZrO2化学膜膜间渗透与激光辐照损伤的研究》文中进行了进一步梳理溶胶-凝胶SiO2和ZrO2光学薄膜具有在可见和近红外区域低吸收和低色散、良好的化学和热稳定性、高激光损伤阈值等特征,且制备工艺简单,成本较低。因而在高功率激光装置中具有良好的应用前景,受到各惯性约束核聚变（ICF）研究机构的特别关注。遗憾的是,SiO2/ZrO2多层高反膜的膜间相互渗透问题一直困扰着广大科技工作者,这一问题成为限制膜层累加和激光损伤阈值提高的关键因素。此外对溶胶-凝胶光学薄膜激光损伤机理的认识方面也有严重不足,这都成为化学膜广泛应用的极大障碍。本论文从胶体的配方和薄膜的镀制出发,详细论述了单层SiO2薄膜、单层ZrO2薄膜、SiO2/ZrO2双层和多层薄膜的光学性质和抗激光损伤行为的差异。使用椭偏仪、红外-拉曼光谱仪、原子力显微镜（AFM）和X射线光电子能谱仪（XPS）等表征手段研究了后处理方式和预填充方式对薄膜光学性质以及膜间渗透行为的影响;最后作者使用Nd:YAG激光器测试了单层、双层和多层膜在基频光（1064nm）下的损伤行为,并结合实验后膜层损伤的显微观测情况,从热力学响应及膜层微观特性差异的角度探讨了化学膜层损伤阈值远高于相应的物理膜层的微观机理。从而在具体科学问题上取得了一些阶段性的成果,主要得出以下结论:1)利用正硅酸乙酯（TEOS）、丙醇锆（Zr（OPr）4）、氨水、乙醇等试剂,采用适当的化学配比,在一定的实验条件下制得高质量的SiO2和ZrO2胶体。2)基于椭偏仪和XPS对SiO2/ZrO2双层膜的研究,慎重地提出了膜间的渗透问题,指出在多孔SiO2薄膜上累加ZrO2时膜层渗透相当严重,底层几乎发生全渗透;而在ZrO2上累加SiO2时,渗透相对较小。3)对SiO2化学膜进行了氨热后处理,指出氨热处理都可以使得膜厚降低,折射率升高,从而达到减小孔隙率的效果。这是因为胶粒的硅羟基间发生了缩合反应,因此彼此交联程度变大的缘故。4)尝试提出了控制膜间渗透的两条思路:其一是后处理（化学方法）,即通过后处理的方式使SiO2膜层胶粒相互缩合,从而使膜面“缩孔”或者“闭孔”;其二是预填充（物理方法）,即用可洗脱材料预填充SiO2膜层的孔隙,累加ZrO2待成膜硬化后再行清除。对于第一种方式,实验表明氨热后处理都有一定的防渗透效果;第二种方式,尝试了萘和聚苯乙烯的填充,指出萘的填充还有很多弊端,熏、浸、掺的方式都有一定的问题没有解决,聚苯乙烯的填充有一定的实验效果。5)总结了激光与光学薄膜相互作用的基本原理（损伤机理、损伤的判断方式和影响损伤的因素）;详细阐述了光学薄膜激光辐照损伤测试的国际标准ISO11254（损伤阈值的能量作用方式和损伤阈值的确定方法）。6)研究了在相同K9基底上镀制的单层SiO2、ZrO2物理膜（PVD）和化学膜（Sol-gel）的激光辐照损伤行为的差异,结合膜层孔隙率、热吸收、表面粗糙度和镀膜工艺的差异对它们不同的损伤阈值和损伤斑形貌进行了解释,概括出化学膜的损伤阈值普遍高出物理膜一倍多的可能原因是化学膜具有高的孔隙率、低的热吸收和低的缺陷密度。在此基础上探究了SiO2/ZrO2双层膜和多层高反膜的损伤行为,指出当激光能量密度稍高于损伤阈值时,薄膜损伤表现为薄膜表面热烧蚀,其过程为薄膜膜料中的有机组分先被加热而气化并在激光电场中电离而形成初始等离子体;等离子体和后续激光的相互作用使温度升高和体积膨胀又对薄膜结构产生热冲击破坏,使损伤区域扩大,发生灾难性损伤。
二、高反射膜抗激光损伤的研究进展（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、高反射膜抗激光损伤的研究进展（论文提纲范文）
（1）1064nm高能激光反射膜的制备及其形变分析（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景及意义 |
| 1.2 激光高反膜的研究现状 |
| 1.2.1 提高激光薄膜激光损伤阈值的方法 |
| 1.2.2 薄膜残余应力研究进展 |
| 1.2.3 薄膜应力仿真分析 |
| 1.2.4 薄膜残余应力控制 |
| 1.3 本文的主要研究内容 |
| 1.3.1 主要研究内容 |
| 1.3.2 研究技术路线 |
| 2 薄膜制备与性能表征 |
| 2.1 光学薄膜制备 |
| 2.1.1 热蒸发沉积 |
| 2.1.2 离子束辅助沉积 |
| 2.2 光谱性能表征 |
| 2.3 抗激光性能表征 |
| 2.4 薄膜应力表征 |
| 3 高反膜的设计与优化 |
| 3.1 膜系设计理论 |
| 3.1.1 单层介质膜 |
| 3.1.2 多层介质膜 |
| 3.1.3 多层介质高反膜 |
| 3.2 薄膜材料的选择 |
| 3.3 激光高反膜的设计 |
| 3.3.1 膜料对高反膜特性的影响 |
| 3.3.2 膜系对高反膜特性的影响 |
| 3.4 小结 |
| 4 膜-基体系应力建模及仿真 |
| 4.1 膜-基结构应力理论 |
| 4.1.1 膜-基结构的热应力 |
| 4.1.2 薄膜的本征应力 |
| 4.2 热应力的分布及其对元件面形的影响 |
| 4.3 残余应力的分布及其对元件面形的影响 |
| 4.4 高反膜残余应力对元件面形影响仿真 |
| 4.5 小结 |
| 5 1064nm高能激光反射膜的制备及性能 |
| 5.1 薄膜制备工艺 |
| 5.2 单层膜的光学常数和应力分析 |
| 5.3 高反膜光学特性及应力分析 |
| 5.3.1 基底面形对高反膜面形影响 |
| 5.3.2 膜料和膜系对高反膜面形影响 |
| 5.4 离子束辅助沉积高反膜 |
| 5.5 小结 |
| 6 结论及展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及成果 |
| 致谢 |
（2）离子束溅射沉积多波长激光薄膜研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 |
| 1.2 多波长激光薄膜研究进展 |
| 1.2.1 宽带激光腔镜反射薄膜发展现状 |
| 1.2.2 多谱段非线性激光晶体减反薄膜发展现状 |
| 1.3 氧化物薄膜国内外研究进展 |
| 1.3.1 国外研究现状 |
| 1.3.2 国内研究现状 |
| 1.4 多波长激光薄膜研究现状分析 |
| 1.5 本文的主要研究内容 |
| 第2章 氧化物薄膜光学常数精确表征及相关性研究 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 基于一介声子耦合的介电常数能带方程 |
| 2.2.1 光学常数色散物理模型 |
| 2.2.2 基于能带结构的光学常数物理模型 |
| 2.2.3 基于声子特性的光学常数模型 |
| 2.3 薄膜光学常数反演计算方法 |
| 2.4 光学常数精确表征模型研究及改进 |
| 2.4.1 Ta_2O_5 薄膜材料光学常数表征 |
| 2.4.2 HfO_2 薄膜材料光学常数表征 |
| 2.4.3 Ta_2O_5与HfO_2 薄膜带边特性分析 |
| 2.4.4 薄膜宽波段光学常数表征 |
| 2.5 基于相关性原理的薄膜特性表征方法 |
| 2.5.1 相关性原理 |
| 2.5.2 离子束溅射薄膜特性相关性研究 |
| 2.6 本章小结 |
| 第3章 氧充量对离子束溅射氧化物薄膜特性影响研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 Ta_2O_5 薄膜性能研究 |
| 3.2.1 不同起始材料Ta_2O_5 薄膜的制备 |
| 3.2.2 氧气流量对Ta_2O_5 薄膜光学性能的影响 |
| 3.2.3 氧气流量对Ta_2O_5 薄膜应力特性的影响 |
| 3.3 HfO_2 薄膜性能研究 |
| 3.3.1 不同起始材料HfO_2 薄膜的制备 |
| 3.3.2 氧气流量对HfO_2 薄膜光学特性的影响 |
| 3.3.3 氧气流量对HfO_2 薄膜应力特性的影响 |
| 3.4 SiO_2 薄膜性能研究 |
| 3.4.1 SiO_2 薄膜的制备 |
| 3.4.2 氧气流量对SiO_2 薄膜光学特性的影响 |
| 3.4.3 氧气流量对SiO_2 薄膜微结构特性的影响 |
| 3.4.4 氧气流量对SiO_2 薄膜的应力特性的影响 |
| 3.5 Al_2O_3 薄膜性能研究 |
| 3.5.1 Al_2O_3 薄膜的制备 |
| 3.5.2 氧气流量对Al_2O_3 薄膜光学和能带特性的影响 |
| 3.5.3 氧气流量对Al_2O_3 薄膜应力特性的影响 |
| 3.6 本章小结 |
| 第4章 离子束溅射氧化物薄膜后处理研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 后处理方法研究 |
| 4.2.1 退火后处理方法 |
| 4.2.2 热等静压后处理方法 |
| 4.3 退火对Ta_2O_5 薄膜性能影响研究 |
| 4.3.1 退火对Ta_2O_5 薄膜光学常数的影响 |
| 4.3.2 退火对Ta_2O_5 薄膜能带特性的影响 |
| 4.3.3 退火对Ta_2O_5 薄膜微结构特性的影响 |
| 4.3.4 退火对Ta_2O_5 薄膜力学特性的影响 |
| 4.4 退火对TiO_2 薄膜性能影响研究 |
| 4.4.1 退火对TiO_2 薄膜光学常数的影响 |
| 4.4.2 退火对TiO_2 薄膜应力特性的影响 |
| 4.4.3 退火对TiO_2 薄膜微结构特性的影响 |
| 4.5 热等静压和退火后处理方法对比研究 |
| 4.5.1 热等静压和退火对Ta_2O_5 薄膜特性的影响 |
| 4.5.2 热等静压和退火对HfO_2 薄膜特性的影响 |
| 4.6 本章小结 |
| 第5章 超宽带高反射薄膜设计与制备研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 宽带反射镜面形和吸收调控设计 |
| 5.2.1 低面形畸变宽带反射镜设计方法 |
| 5.2.2 基于吸收损耗控制的超宽带高反射薄膜设计 |
| 5.3 低面形畸变宽带反射镜制备实验 |
| 5.3.1 多层膜制备及光学性能测试 |
| 5.3.2 面形精度测试 |
| 5.4 超宽带反射镜的制备及性能测试 |
| 5.4.1 超宽带反射镜薄膜的设计 |
| 5.4.2 超宽带反射镜薄膜的制备及后处理 |
| 5.4.3 超宽带反射镜薄膜光谱测试 |
| 5.4.4 超宽带反射镜薄膜吸收损耗测试 |
| 5.4.5 超宽带反射镜薄膜面形精度测试 |
| 5.5 本章小结 |
| 第6章 多谱段晶体减反射薄膜设计与制备研究 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 磷锗锌晶体特性 |
| 6.3 激光损伤的抑制 |
| 6.3.1 激光作用下温度场分布计算 |
| 6.3.2 高抗激光损伤减反射薄膜设计 |
| 6.4 ZGP晶体减反射薄膜制备 |
| 6.4.1 ZGP晶体表面处理 |
| 6.4.2 多谱段减反射薄膜制备 |
| 6.5 ZGP晶体减反膜测试 |
| 6.5.1 ZGP晶体镀膜光谱性能测试 |
| 6.5.2 ZGP晶体镀膜元件损伤测试 |
| 6.6 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 |
| 致谢 |
| 个人简历 |
（3）后处理工艺对光学薄膜特性影响的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 选题背景及研究的目的和意义 |
| 1.2 后处理工艺的国内外研究现状 |
| 1.2.1 激光预处理 |
| 1.2.2 离子后处理 |
| 1.2.3 热退火处理 |
| 1.2.4 保护膜和缓冲层 |
| 1.3 论文的主要内容 |
| 第2章 光学薄膜检测及损伤机理的分析 |
| 2.1 光学薄膜检测 |
| 2.2 薄膜吸收的测试 |
| 2.3 薄膜激光损伤的定义及损伤机理 |
| 2.3.1 激光损伤的定义 |
| 2.3.2 影响损伤阈值的因素 |
| 2.3.3 提高损伤阈值的途径 |
| 2.4 本章小结 |
| 第3章 后处理对单层TiO_2、HfO_2薄膜的影响 |
| 3.1 离子后处理对单层TiO_2薄膜的影响 |
| 3.1.1 TiO_2薄膜的制备及后处理参数 |
| 3.1.2 离子后处理对TiO_2薄膜光学特性的影响 |
| 3.1.3 离子后处理对TiO_2薄膜表面形貌的影响 |
| 3.1.4 离子后处理对TiO_2薄膜激光损伤阈值的影响 |
| 3.2 两步后处理对单层HfO_2薄膜的影响 |
| 3.2.1 HfO_2薄膜的制备及后处理参数 |
| 3.2.2 两步后处理对HfO_2薄膜光学特性的影响 |
| 3.2.3 两步后处理对HfO_2薄膜表面形貌的影响 |
| 3.2.4 两步后处理对HfO_2薄膜激光损伤阈值的影响 |
| 3.3 本章小结 |
| 第4章 两步后处理对TiO_2/HfO_2/SiO_2 高反薄膜的影响 |
| 4.1 高损伤阈值TiO_2/HfO_2/SiO_2 高反膜的设计 |
| 4.2 TiO_2/HfO_2/SiO_2 高反膜的制备及后处理参数 |
| 4.3 两步后处理对TiO_2/HfO_2/SiO_2 高反膜光学特性的影响 |
| 4.4 两步后处理对TiO_2/HfO_2/SiO_2 高反膜表面形貌影响 |
| 4.5 两步后处理对TiO_2/HfO_2/SiO_2 高反膜激光损伤阈值影响 |
| 4.6 本章小结 |
| 第5章 结论与展望 |
| 5.1 结论及创新点 |
| 5.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 |
| 致谢 |
（4）LD端泵腔内倍频457nm激光器高反射腔镜的研制（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题研究背景及意义 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.2.1 非球面加工技术研究现状 |
| 1.2.2 激光高反射膜研究现状 |
| 1.3 论文研究的主要目的和主要内容 |
| 第2章 高反射腔镜的基片制备 |
| 2.1 技术要求 |
| 2.2 材料去除机理 |
| 2.3 高反射腔镜基片平面加工 |
| 2.4 高反射腔镜基片非球面加工 |
| 2.4.1 非球面铣磨工艺研究 |
| 2.4.2 非球面抛光工艺研究 |
| 2.4.3 非球面加工 |
| 2.4.4 降低非球面表面粗糙度的工艺优化 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 高反射腔镜的膜系设计 |
| 3.1 技术要求 |
| 3.2 光学薄膜设计理论 |
| 3.2.1 光学薄膜特性计算 |
| 3.2.2 多层介质高反射膜 |
| 3.3 薄膜材料研究 |
| 3.3.1 高低折射率薄膜材料的选择 |
| 3.3.2 薄膜材料折射率的拟合 |
| 3.4 膜系结构设计 |
| 3.4.1 高反射膜膜系设计与优化 |
| 3.4.2 减反射膜膜系设计 |
| 3.4.3 双面设计 |
| 3.5 膜系设计中出现的问题与解决方案 |
| 3.6 本章小结 |
| 第4章 高反射腔镜的薄膜制备 |
| 4.1 薄膜材料工艺参数研究 |
| 4.1.1 真空度研究 |
| 4.1.2 沉积速率研究 |
| 4.1.3 沉积温度研究 |
| 4.2 离子辅助沉积技术研究 |
| 4.3 退火工艺研究 |
| 4.4 高反射腔镜的薄膜制备工艺流程 |
| 4.5 本章小结 |
| 第5章 测试结果与分析 |
| 5.1 光谱测试与误差分析 |
| 5.1.1 测试设备与原理 |
| 5.1.2 光谱测试结果 |
| 5.1.3 误差分析 |
| 5.2 误差拟合模型的建立与工艺优化 |
| 5.3 环境测试 |
| 5.4 抗激光损伤能力测试 |
| 5.5 测试分析中出现的问题与解决方案 |
| 5.6 本章小结 |
| 第6章 总结与展望 |
| 6.1 主要工作总结 |
| 6.2 创新点说明 |
| 6.3 不足与展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间的学术成果和参与科研情况 |
| 致谢 |
（5）渐变膜系减反膜激光损伤阈值变化规律研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景及意义 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.2.1 宽带减反膜的研究现状 |
| 1.2.2 薄膜激光损伤特性的研究现状 |
| 1.3 本文研究的主要内容和章节安排 |
| 2 研究方案 |
| 2.1 研究方案及技术路线 |
| 2.2 PECVD技术制备光学薄膜的可行性分析 |
| 2.2.1 光学薄膜的制备方法 |
| 2.2.2 薄膜光学特性的检测方法 |
| 2.2.3 薄膜激光损伤阈值的测试方法 |
| 2.3 可行性实验 |
| 2.3.1 PECVD工艺稳定性实验 |
| 2.3.2 PECVD制备渐变折射率薄膜实验 |
| 2.4 本章小结 |
| 3 膜系设计 |
| 3.1 设计指标 |
| 3.2 折射率的选取 |
| 3.3 渐变膜系减反膜设计理论 |
| 3.3.1 光在均匀介质中的传播 |
| 3.3.2 光在非均匀介质中的传播 |
| 3.4 渐变膜系减反膜设计方案 |
| 3.4.1 G/H_1→H/L/A膜系 |
| 3.4.2 G/0.48H_2/L_1→H/1.31L_1/A膜系 |
| 3.4.3 G/L_1/L/H_3→H/L_1/A膜系 |
| 3.5 渐变膜系减反膜的透射光谱及电场强度研究 |
| 3.5.1 光学多层膜内的电场强度分布 |
| 3.5.2 不同梯度化减反膜的透射光谱及电场强度研究 |
| 3.6 本章小结 |
| 4 PECVD制备渐变膜系减反膜工艺技术研究 |
| 4.1 梯度渐变膜系减反膜工艺技术研究 |
| 4.1.1 镀制工艺流程 |
| 4.1.2单层膜工艺实验 |
| 4.1.3 梯度法制备G/H_1→H/L/A的工艺研究 |
| 4.1.4 梯度法制备G/0.48H_2/L_1→H/1.31L_1/A的工艺研究 |
| 4.1.5 梯度法制备G/L_1/L/H_3→H/L_1/A的工艺研究 |
| 4.2 坡度渐变膜系减反膜工艺技术研究 |
| 4.2.1 镀制工艺流程 |
| 4.2.2 坡度法制备G/H_1→H/L/A的工艺研究 |
| 4.2.3 坡度法制备G/0.48H_2/L_1→H/1.31L_1/A的工艺研究 |
| 4.2.4 坡度法制备G/L_1/L/H_3→H/L_1/A的工艺研究 |
| 4.3 本章小结 |
| 5 PECVD制备渐变膜系减反膜的损伤特性研究 |
| 5.1 G/H_1→H/L/A薄膜损伤特性 |
| 5.2 G/0.48H_2/L_1→H/1.31L_1/A薄膜损伤特性 |
| 5.3 G/L_1/L/H_3→H/L_1/A薄膜损伤特性 |
| 5.4 不同渐变膜系与激光损伤特性之间的关系 |
| 5.5 本章小结 |
| 6 结论及展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 |
| 致谢 |
（6）高反射光学薄膜激光损伤研究进展（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 激光诱导光学薄膜损伤测试标准 |
| 3 国内外研究进展 |
| 3.1 辐照激光特性对损伤阈值影响 |
| 3.1.1 光斑效应 |
| 3.1.2 激光波长 |
| 3.1.3 多脉冲效应 |
| 3.1.4 激光重复频率 |
| 3.2 薄膜特性对损伤阈值的影响 |
| 3.2.1 场强分布 |
| 3.2.2 薄膜厚度 |
| 3.2.3 光学薄膜材料 |
| 3.3 后工艺处理对损伤阈值的影响 |
| 3.3.1 激光预处理 |
| 3.3.2 热退火 |
| 3.3.3 保护膜 |
| 3.4 其它因素对损伤阈值影响 |
| 3.4.1 工作温度 |
| 3.4.2 镀膜真空度 |
| 4 提高光学薄膜损伤阈值方法 |
| 5 结束语 |
（7）介质保护铝基高反膜的激光损伤特性研究（论文提纲范文）
| 1 膜系设计 |
| 2 薄膜制备 |
| 3 测试结果与分析 |
| 3.1 沉积温度对金属膜光学特性的影响 |
| 3.2 膜层厚度对薄膜损伤特性的影响 |
| 3.3 薄膜经激光辐照后光学特性变化 |
| 4 结论 |
（8）长脉冲激光辐照下多孔薄膜激光损伤机制研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 目录 |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 研究背景及意义 |
| 1.2 激光损伤研究进展 |
| 1.2.1 激光损伤阈值测试 |
| 1.2.2 实验研究进展 |
| 1.2.3 理论研究进展 |
| 1.3 多孔薄膜激光损伤研究进展 |
| 1.4 多孔膜制备进展 |
| 1.4.1 化学法制备多孔薄膜 |
| 1.4.2 物理法制备多孔薄膜 |
| 1.4.3 模板法制备多孔薄膜 |
| 1.5 多孔薄膜力学性能研究进展 |
| 1.5.1 溶胶-凝胶法制备的多孔薄膜力学性能 |
| 1.5.2 多孔阳极氧化铝膜的力学性能 |
| 1.6 本课题研究内容及意义 |
| 1.6.1 课题研究内容 |
| 1.6.2 课题研究意义 |
| 第2章 多孔薄膜的制备及性能测试 |
| 2.1 溶胶-凝胶法制备多孔氧化硅薄膜 |
| 2.1.1 溶胶配比及镀膜 |
| 2.1.2 热处理 |
| 2.2 阳极氧化法制备玻璃基多孔氧化铝膜 |
| 2.2.1 电子束蒸发沉积铝膜 |
| 2.2.2 阳极氧化制备多孔氧化铝膜 |
| 2.3 形貌测试及分析 |
| 2.3.1 多孔氧化硅薄膜形貌 |
| 2.3.2 多孔氧化铝膜形貌 |
| 2.4 光学性能测试及分析 |
| 2.4.1 光学性能测试及计算 |
| 2.4.2 多孔氧化硅薄膜光学性能 |
| 2.4.3 玻璃基多孔氧化铝膜光学性能 |
| 2.5力学性能测试及分析 |
| 2.5.1 力学性能测试 |
| 2.5.2 多孔氧化硅薄膜力学性能 |
| 2.5.3 玻璃基多孔氧化铝膜力学性能 |
| 2.6 本章小结 |
| 第3章 致密及多孔薄膜激光损伤测试及结果分析 |
| 3.1 激光损伤测试设备及原理 |
| 3.2 电子束蒸发制备致密薄膜激光损伤结果及分析 |
| 3.2.1 电子束蒸发制备致密薄膜激光损伤阈值 |
| 3.2.2 电子束蒸发制备致密薄膜激光损伤形貌 |
| 3.3 多孔氧化硅薄膜激光损伤结果及分析 |
| 3.3.1 多孔氧化硅薄膜激光损伤阈值 |
| 3.3.2 多孔氧化硅薄膜激光损伤形貌 |
| 3.4 玻璃基多孔氧化铝膜激光损伤结果及分析 |
| 3.4.1 玻璃基多孔氧化铝膜激光损伤阈值 |
| 3.4.2 玻璃基多孔氧化铝膜激光损伤形貌 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 长脉冲激光辐照下多孔薄膜损伤过程 |
| 4.1 长脉冲激光辐照下多孔薄膜能量吸收 |
| 4.1.1 激光对多孔薄膜的热效应 |
| 4.1.2 受内压球壳模型 |
| 4.2 长脉冲激光辐照等离子体微滴雾化 |
| 4.2.1 微滴雾化动力 |
| 4.2.2 微滴离化机理 |
| 4.2.3 两结果微滴雾化模型 |
| 4.2.4 四结果微滴雾化模型 |
| 4.2.5 计算结果及分析 |
| 4.3 长脉冲激光辐照等离子体微滴膨胀 |
| 4.3.1 理论基础 |
| 4.3.2 计算结果及分析 |
| 4.4 长脉冲激光辐照等离子体微滴爆炸过程 |
| 4.5 本章小结 |
| 第5章 结论、创新与展望 |
| 5.1 主要工作及结论 |
| 5.2 研究创新点 |
| 5.3 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 附录 |
（9）高反膜镀制工艺研究的新进展（论文提纲范文）
| 1 高反膜的分类 |
| 1.1 金属高反膜 |
| 1.2 多层介质高反膜 |
| 2 高反膜的制备方法 |
| 2.1 电子束蒸发沉积 |
| 2.2 离子束辅助沉积 |
| 2.3 离子束溅射沉积 |
| 2.4 溶胶-凝胶法 |
| 3 高反膜的抗激光损伤性能 |
| 3.1 镀膜材料对薄膜损伤性能的影响 |
| 3.2 镀膜工艺对薄膜的损伤性能的影响 |
| 4 展望 |
（10）SiO2/ZrO2化学膜膜间渗透与激光辐照损伤的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 引言 |
| 1.1 课题背景 |
| 1.2 国内外溶胶-凝胶强激光光学薄膜的研究现状 |
| 1.3 本文研究方法和各章节的安排 |
| 第二章 溶胶-凝胶SiO_2/ZrO_2薄膜的制备与表征 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 镀光学薄膜的基片 |
| 2.2.1 光学玻璃 |
| 2.2.2 基片的清洗 |
| 2.3 胶体化学以及涂膜方式 |
| 2.3.1 相关的胶体化学 |
| 2.3.2 镀膜方式 |
| 2.4 SiO_2 与 ZrO_2 薄膜的制备 |
| 2.4.1 实验试剂 |
| 2.4.2 实验仪器 |
| 2.4.3 溶胶的配制和优化 |
| 2.5 胶体配制过程的探讨 |
| 2.6 本论文涉及的表征仪器 |
| 2.6.1 椭偏仪 |
| 2.6.2 紫外-可见（UV-VIS）分光光度计 |
| 2.6.3 原子力显微镜（AFM） |
| 2.6.4 X 射线光电子能谱(XPS) |
| 2.6.5 傅立叶变换红外（FT-IR）光谱 |
| 2.6.6 光学显微镜 |
| 2.6.7 静滴接触角测量仪 |
| 2.7 小结 |
| 第三章 SiO_2/ZrO_2薄膜膜间渗透行为的研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 多层高反膜光学基础 |
| 3.2.1 SiO_2/ZrO_2多层高反膜膜系的优化设计 |
| 3.2.2 四分之一波堆高反射膜的设计理论 |
| 3.2.3 多层高反射膜的吸收和散射损耗 |
| 3.2.4 四分之一波堆多层高反膜的驻波场效应 |
| 3.3 SiO_2/ZrO_2膜间渗透问题的提出 |
| 3.3.1 单层 SiO_2和 ZrO_2薄膜的原子力显微镜(AFM)观察 |
| 3.3.2 SiO_2/ZrO_2双层膜和 ZrO_2/SiO_2双层膜的椭偏仪研究 |
| 3.3.3 SiO_1/ZrO_2双层膜和 ZrO_2/SiO_2双层膜的 XPS 研究 |
| 3.3.4 膜间渗透对多层膜的影响 |
| 3.4 SiO_2/ZrO_2薄膜的氨热后处理的概述 |
| 3.4.1 热处理对溶胶-凝胶薄膜的影响 |
| 3.4.2 氨处理对溶胶-凝胶薄膜的影响 |
| 3.4.3 溶胶-凝胶 SiO_2薄膜氨热两步后处理 |
| 3.5 氨热后处理对膜间渗透的影响 |
| 3.5.1 热处理对 SiO_2/ZrO_2双层膜渗透行为的影响 |
| 3.5.2 氨热处理对 SiO_2/ZrO_2双层膜渗透行为的影响 |
| 3.6 层间预填充可洗脱材料控制膜间渗透 |
| 3.6.1 层间预填充萘 |
| 3.6.2 层间预填充聚苯乙烯 |
| 3.7 小结 |
| 第四章 光学薄膜强激光辐照损伤概述 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 薄膜的损伤机理 |
| 4.3 影响光学薄膜激光损伤阈值的因素 |
| 4.3.1 光学薄膜方面的影响 |
| 4.3.2 激光方面的影响 |
| 4.4 薄膜损伤的判定方法 |
| 4.5 损伤阈值测试的能量作用方式 |
| 4.6 激光损伤阈值的确定方法 |
| 4.7 小结 |
| 第五章 溶胶-凝胶SiO_2/ZrO_2薄膜激光辐照损伤的研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 实验装置 |
| 5.3 溶胶-凝胶薄膜与传统物理膜损伤行为差异的对比研究 |
| 5.3.1 样品的制备 |
| 5.3.2 样品的表征 |
| 5.3.3 损伤行为的差异及主要原因 |
| 5.3.4 成膜机制的差异 |
| 5.3.5 小结 |
| 5.4 溶胶-凝胶SiO_2/ZrO_2双层膜辐照损伤对比实验 |
| 5.5 溶胶-凝胶SiO_2/ZrO_2多层高反膜的辐照损伤 |
| 5.5.1 ZrO_2/SiO_2高反膜不同能量密度下的损伤 |
| 5.5.2 溶胶-凝胶 ZrO_2/SiO_2多层高反膜的激光损伤机制 |
| 5.6 小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 论文工作总结 |
| 6.2 进一步工作的建议 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻硕期间取得的研究成果 |
四、高反射膜抗激光损伤的研究进展（论文参考文献）
- [1]1064nm高能激光反射膜的制备及其形变分析[D]. 李阳. 西安工业大学, 2021(02)
- [2]离子束溅射沉积多波长激光薄膜研究[D]. 王利栓. 哈尔滨工业大学, 2021(02)
- [3]后处理工艺对光学薄膜特性影响的研究[D]. 毛思达. 长春理工大学, 2020(01)
- [4]LD端泵腔内倍频457nm激光器高反射腔镜的研制[D]. 李五一. 长春理工大学, 2019(02)
- [5]渐变膜系减反膜激光损伤阈值变化规律研究[D]. 王燕. 西安工业大学, 2019(03)
- [6]高反射光学薄膜激光损伤研究进展[J]. 董家宁,范杰,王海珠,邹永刚,张家斌,侯春鸽. 中国光学, 2018(06)
- [7]介质保护铝基高反膜的激光损伤特性研究[J]. 苏俊宏,牛燕敏,侯妮妮,徐均琪. 西安工业大学学报, 2016(04)
- [8]长脉冲激光辐照下多孔薄膜激光损伤机制研究[D]. 郭培涛. 武汉理工大学, 2011(12)
- [9]高反膜镀制工艺研究的新进展[J]. 邓婷,黄光周,刘雄英,朱建明,戴晋福. 真空电子技术, 2009(03)
- [10]SiO2/ZrO2化学膜膜间渗透与激光辐照损伤的研究[D]. 章春来. 电子科技大学, 2009(11)